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Le Savon Lune

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Le Savon Lune es la clave para una tez luminosa, por lo que hemos infundido con nuestra fórmula patentada de HIdrosol de plata y DNA HP para crear un limpiador libre de detergentes que ayuda a restaurar el equilibrio natural de la piel, sin deshidratar o irritar. Creado con el pH óptimo para la piel, le savon lune es el limpiador perfecto para combatir imperfecciones, dejando la piel limpia, jugosa y visiblemente más sana.

Ingredientes clave y beneficios

Elaborado con 98% de ingredientes naturales, le savon lune no contiene parabenos, sulfatos, petróleo, alcohol o sili- conas, y es adecuado para todo tipo de piel, incluyendo la piel sensible. Usamos tres surfactantes (Lauril disódico Sulfo- succinate, Cocamidopropil betaína y ácido esteárico), para crear una espuma suave y no irritante. Estos tensio-activos son 100% de origen natural, provienen de las mejores proveedores, y derivan de coprah/Palma, coco y azúcar. Los ingredientes calmantes y purificadores hacen del savon lune el perfecto aliado para conseguir una piel limpia, jugosa y visiblemente más sana.

¿Cómo se usa?

Para activar la pastilla de jabon le Savon Lune , manténgala momentáneamente debajo del agua corriente y después utilice sus manos para crear una espuma suave que se pueda aplicar en movimientos circulares en rostro y cuello . Esta acción limpiara e hidratara la piel en profundidad, eliminara maquillaje y cerrara los poros abiertos. Después aclarar con agua corriente tibia y luego secar. Use el jabón dos veces al día, siempre antes de aplicar la poción infinie.

Tips

DESMAQUILLA
AFINA LOS POROS
NO RESECA & NO COMEDOGENICO
ANTIBACTERIANO & ANTIINFLAMATORIO

Ingredientes

Lauril sulfosuccinato disódico (no confundir con sulfatos), Alcohol CETEARÍLICO, almidón de Triticum vulgare, plata coloidal, aceite de ricino hidrogenado, glicerina, ácido esteárico, coco glucósido, betaína de cocamidopropil, mantequilla de BUTYROSPER- MUM PARKII (Shea), glicerina, bentonita, DNA del sodio, Parfum (fragancia) cuarzo, Limoneno, linalool, eugenol.